钼片复合镀钌工艺
钼是一种耐高温材料，但钼材表面易生成的氧化膜，该氧化膜对钼不能起到任何保护作用，因此在高温环境下钼材极易产生强烈的氧化。为了改善钼片表面的耐热性和导电性等性能，需在钼片上镀覆镀层。用于电子材料领域的钼片，通常在其表面上镀钌以改善钼片材料的导电性能、耐热性能、钎焊性能，并减少或防止材料的氧化。现有的钼片镀钌工艺通常需要采用多层化学镀钌或电镀后进行扩散渗钌，这种钼片直接镀钌的方法往往粘附不牢固定，长期使用易起皮脱落，使用寿命较短；并且工艺较为繁琐，成本高，扩散渗钌耗时长，生产周期长，效率低；另外，现有的镀钌工艺由于温度过高，由于内应力释放，造成钼片变形较大，从而增加废品率。
在针对上述的问题，进行了研究改进，提供一种钼片复合镀钌工艺，提高钌镀层在钼片上的粘附力，提高镀钌钼片的使用寿命，提高生产效率，减少废品率，降低成本。技术方案如下：
步骤1、对钼片进行前处理；
步骤2、用化学镀钌法在钼片表面镀上第一层钌膜镀层；
步骤3、将钼片进行超声清洗；
步骤4、将钼片放入真空溅射装置中，对钼片表面进行钌物理气相沉积，在钼片表面镀上第二层钌膜镀层；
步骤5、将钼片进行超声清洗；
步骤6、电镀前的预处理；
本文公开的一种钼片复合镀钌工艺，钌膜层由化学镀、溅射及电镀相结合完成， 钌膜镀层内部晶粒致密，分布均勻，与钼片具有较高的结合力，不易起皮脱落，钌膜表面质量好，综合性能稳定，使用寿命长；镀钌过程中温度较低，钼片变形小，提高钼片镀钌的合格率，降低生产成本。步骤7、用电镀法对钼片电镀第三层钌膜镀层。