铂沉积到丝织品上的样品
最近，荷兰埃因霍温理工大学科学家利用原子层沉积技术，在室温下即获得了优异性质的铂膜。整个工序包括(三甲基)甲基环戊二烯合铂(IV)加料、氧气等离子体照射和氢气/氢气等离子照射三个阶段，最终制得高品质，电阻率18–24 μΩ cm的超纯铂薄膜材料。氢气脉冲的使用是为了PtOx在室温下还原出来。系列的研究结果表明，室温沉积铂的基体可以是聚合物、织物、纸张、塑料等，这大大扩展了原子沉积铂薄膜的应用范围，并且沉积温度降低到室温，使其在温敏材料中的应用成为可能。