熔盐电镀铂装置图
熔盐镀铂 始于20世纪30年代。最初采用锂和钾的氯化物熔盐作为电解质，但未得到令人满意的镀层。后来采用碱金属氰化物熔盐电镀获得了成功。主要用于难熔金属(钼、钨、钛)上镀铂，美国、西德、英国等已用于工业生产。在熔融氰化物中，难熔金属表面的钝化膜可被溶解，由于电解质中不含氧，故基体同镀层结合很牢，镀层纯度高，无应力，延性好，无孔隙，可镀厚层。通过X射线衍射分析它的晶面参数为3.925，接近纯铂的3.931。原先使用的坩埚材料是陶瓷、石英或高铝红柱石，这些坩埚都会发生严重腐蚀，导致熔盐使用寿命短，现采用钛坩埚作容器。电镀过程需用氩气保护，熔盐温度为600℃±50℃。阳极用可溶性铂阳极，由于电镀时阳极效率高于阴极效率，应定期添加氰化物以维持熔体有效成分的基本稳定。
熔盐电镀铂金已成功地应用于钼丝的连续覆盖。 获得的镀层有韧性，并且优于水溶液镀铂，特别是结合力好纯度高。 该法同样适用于镀层超过1毫米的电铸部件电镀。遗憾的是，熔盐镀铂工艺复杂、费用较大，难于镀大面积镀件，因此其应用受到限制。