氧化铂作掩膜的只读超分辨光盘
在光存储领域里，只读式光盘是除了一次记录、一次可擦，可重复擦写光盘外的另一个重要分支，在市场中占有很大的份额；而为了提高光存储密度，超分辨技术最近几年也越来越受到人们的关注。所以研究只读式超分辨光盘有它重要的应用和科学研究价值。由于不考虑记录过程，所以研究的过程可以大大简化，这更利于从科学的角度进行分析研究。在先进技术中，人们采用锑(Sb)，锗锑碲(GeSbTe)和银铟锑碲(AgInSbTe)等相变材料作为掩膜材料。采用以上材料作为掩膜材料，是利用了材料的非线性开孔效应，所开小孔小于衍射极限，但是这种开孔效应在长时间的读出会出现疲劳现象，即使采用保护层进行保护，它的读出循环性质还是会受到一定的限制的。
发明内容
本发明要解决的问题在于有效地克服上述现有技术的缺陷和困难，提供一种氧化铂作掩膜的只读式超分辨光盘，该光盘应具有稳定性好、信噪比更高和更好的读出循环性。
本发明的技术解决方案如下：一种氧化铂作掩膜的只读超分辨光盘，其特征在于它的构成是在盘基底上依次镀有第二保护层、氧化铂掩膜层和第一保护层，所述的第一保护层和第二保护层均是由硫化锌∶二氧化硅＝80∶20的复合材料构成的薄膜层；所述的氧化铂(PtOx)中的含O2量由溅射过程中O2/(O2+Ar)的分压比例决定，分压比的取值范围为0.1～0.4。所述的氧化铂掩膜层的厚度为15-80nm的纳米。所述的纳米氧化铂粒子的粒度为几至十几纳米。所述的第一保护层和第二保护层的厚度均为30nm。
本发明的技术效果：本发明采用纳米氧化铂代替传统相变材料作为掩膜材料。它和相变材料的只读式超分辨光盘相比，在读出过程中，掩膜层不容易受到热破坏，不易出现疲劳现象，所以具有更好的稳定性质，读出循环性高，而且由于金属纳米粒子的近场增强效应，所获得的信噪比也更高。这是因为纳米氧化铂在聚焦光束作用下不是形成一个动态开关小孔(尺寸小于衍射极限)，而是形成一个散射中心，这个散射中心由很多小的几纳米到十几纳米的铂金粒子构成，统称为铂金纳米粒子。该铂金纳米粒子在激光的照射下不会发生形变、熔化等物理化学变化，具有很好的稳定性。而且该铂金纳米粒子在光的照射下会产生表面或局域等离子体增强效应(形成近场光)，近场光和记录点相互作用后引起折射率或者消光系数的改变，反映到远场从而使小于衍射极限的记录点信息可以分辨，可获得的信噪比没有金属粒子的相变材料要高。所以氧化铂作为掩膜材料可以获得更高的信噪比和读出循环性，使本发明只读式超分辨光盘具有很高的实用性。